产品属性
基板及平台
最大网框尺寸
1200mm X 1100mm
最小网框尺寸
200mm X 200mm
网框厚度
20~40mm
平台尺寸
1850 x 1850 mm
最大曝光面积
1100 x 1000 mm
平台行程
X:1100 mm
Y:1100 mm
Z: 50 mm
平台重复精度
+/- 3um
+/-3 um
+/- 10 um
平台位置精度
+/- 8um
+/- 10um
光刻光学系统
光学系统类型
1:2 圆形
图像畸变
+/- 5 um
焦深
+/- 300um
焦距
自动调焦控制系统
像点尺寸
25 um
最小线宽
75um（最小线宽线缝和焦深可能会由于感光材料，显影条件，基板质量，速度等的影响而不同）
线宽均匀性（3σ）
±7.5um
光强度均匀性（补偿后）
95%
扫描宽度
~25 mm
光刻头数目
1
曝光时间
130秒@ 700mm X 700mm(曝光速度依据感光胶灵敏度及厚度而不同)
图像产生及数据处理
DMD
0.7” XGA 2xLVDS
数据处理板
SPCI-4 rev 1.0
输入数据格式
Gerber 274D/X
最小数据分辨率
3um
最大扫描速度
300 mm/sec
光源
波长
405 nm
最大激光功率
15 W/光刻头
其他要求
解析度
8000DPI
基板材料
网版
上、下料
手动
平台载重
≤40kg
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